• ‌반도체 및 디스플레이 관련, 핵심 소재·부품·장비 분야 연구개발 지원을 위한 클린룸 시설 및 관련 장비가 집적화 되어 있으며, 센터 개소 이래, 10년 이상의 연구개발 지원 역량 및 기술지원 노하우 보유
• 2004년 : 나노기술집적센터구축사업 선정
• 2007년 : 나노기술집적센터 클린룸 준공
• 2009년 : 나노기술집적센터 구축사업 종료
• 2014년 : 나노기술집적센터 활용사업 종료
• 2019년 : 소재·부품·장비 국가연구시설 지정

• 광반도체, OLED, 나노/마이크로 소자 관련 핵심 소재·부품·장비 테스트베드 및 연구개발 지원
• 주력지원 분야 : 5G/6G 초고속 광반도체, OLED 패널, MEMS/NEMS 소자 등
• 반도체, 디스플레이 관련, Si/SiO2 기판 사이즈 (8inch), Glass (200 mm×200 mm) 단위공정 및 일괄공정 지원
• ITO glass (370 mm×470 mm) 증착 및 패터닝 공정 지원

• 광반도체, OLED, 나노/마이크로 소자 관련 핵심 소재·부품·장비 테스트베드 및 연구개발 지원
• 주력지원 분야 : 5G 초고속 광반도체, OLED 패널, MEMS/NEMS 소자 등
• 반도체, 디스플레이 관련, Si/SiO₂ 기판 사이즈 (8inch), Glass (200 mm×200 mm) 단위공정 및 일괄공정 지원
• ITO glass (370 mm×470 mm) 증착 및 패터닝 공정 지원

중소기업해피클릭 : https://partner.kitech.re.kr/

• 

  Sputtering system (Sputter + Evaporator)

  • 주요 사양 및 성능
    • 용도 : 투명/ 메탈 전극 증착
    • 샘플 크기 : 370 mm x 470 mm
    • 두께 균일도
      • Anode : ≤ 5% @150 nm
      • Metal : ≤ 5% @100 nm
    • 면저항 (ITO) ≤25Ω/ @150 nm
    • 투과도 (ITO) ≥90% @550 nm(Film only)
    • Evaporator Metal : Effusion cell
      • (High Cell : RT ~1400℃, 2ea)
      • (Middle Cell : RT ~900℃, 3ea)
      • (Thermal Boat, 1ea)
• 

  감광액 도포기(Track system)

  • 주요 사양 및 성능
    • 용도 : 370mm × 470mm 2세대 기판의 PR 패턴형성
    • 구성 : PR coater, Developer, Hot/cool plate, EBR unit, HMDS unit
    • 현상된 패턴(CD) 균일도 ≤ 3.5%
    • Hot plate 온도 균일도 ≤ ± 2℃
    • Glass 스핀 모터 RPM 정확도 ≤ ± 3%
    • PR 코팅 균일도 ≤ ± 3%

• 

  Deep - RIE

  • 주요 사양 및 성능
    • Cluster 타입의 process module 2개(DSiE/ICP-RIE)
    • Etch Depth : 400μm(Si) / 10μm(SiO₂)
    • Etch rate : >3.5um/min
    • Selectivity to PR : >30:1
    • Profile (mask >87˚) : 901˚
    • Uniformity : ≤±3%
• 

  PE - CVD

  • 주요 사양 및 성능
    • PE-CVD Chamber 3개, Sputter chamber 1개, e-beam 1개
    • 샘플크기 : 200 x 200 mm, 8“, 6”
    • SiO2, SiN, ITO, Metal 박막 증착
    • Thickness Uniformity : ≤ 5%
    • SiO2 Refractive Index : ≥ 1.4573 ± 0.032
    • Deposition Rate : ≥ 2,500 Å/min
• 

  Dual – Beam FIB

  • 주요 사양 및 성능
    • 모델명 : Quanta 3D FEG
    • 용도 : TEM 시편제작 및 소자 불량분석
    • Dual Beam type : FIB/SEM
    • 샘플 로딩 사이즈 : 50x50 mm
    • ION Current : 1.5Pa ~ 65 nA
    • Magnification : x30 ~ x150,000
• 

  WVTR(수분 투과도 측정)

  • 주요 사양 및 성능
    • 모델명 : AQUATRAN 3
    • 측정샘플: 필름 / 용기
    • 센서 Type : 전기분해 방식
    • 온도조절 : 10℃ to 85℃
    • 측정범위
      • 필름:0.000005 to 789 gm/sq.m-day
      • 용기:0.00000025 to 0.025 gm/pkg-day

• 반도체·나노/디스플레이/전기전자/바이오 소재〮부품분야 시제품 제작 지원 및 공정 기술 지원
• 반도체·나노/디스플레이/전기전자/바이오 소재〮부품분야 물성 평가 및 시험 분석 지원

• • 연구 책임자

    김영백

  • E-mail

    kimmoon@kitech.re.kr

  • Tel

    062-600-6520

• • 실무 담당자

    김은미

  • E-mail

    kimeunmi@kitech.re.kr

  • Tel

    062-600-6570