N-LAB

국가연구실

소재·부품·장비분야 산업현장의 기술적 난제 및
애로사항 해결을 지원합니다.

1협의체 소개

반도체 및 디스플레이 핵심 소재인 Si, SiGe, GaN, 기판과 퀀텀 닷 및 CMP 슬러리 소재 기술 과 국내유일 12 인치 UHV-sputter 공정, 자화 및 열처리 공정, CMP 공정 장비 원천 기술에 대한 역량 보유로 관련 기업과의 산·학 연구 활동을 매우 활발히 수행 중이며, 향후 국내 산업체 소재·부품·장비 R&D 활동에 테스트베드로서 역할을 수행

2보유 핵심기술
  • 국내 유일 반도체 CMP 슬러리 설계 기술 보유 및 12인치 웨이퍼 CMP 테스트 베드 구축
  • 국내 유일 디스플레이 CMP 슬러리 설계 기술 보유 및 2세대 OLED 패널 CMP 테스트 베드 구축
  • 국내 유일 12인치 웨이퍼 기반 차세대 비휘발성 메모리 제조 인프라 보유 및 테스트 베드 구축 (12인치 웨이퍼 UHV sputter, 12인치 magnetic vacuum annealer, 12인치 이온주입기, e-beam lithography 등등)
  • 세계 최고 수준 차세대 디스플레이용 Quantum dot 합성 기술 및 OLED 평가 기술 보유
  • 세계 최고 수준의 EUV blank mask 제작 기술 보유
  • 세계 최고 수준의 반도체 디스플레이 mask용 쿼츠 파우더 합성 기술 보유
  • 국내 유일 차세대 전력 반도체 및 고효율 LED 용 HVPE GaN 기판 기술 보유
3지원분야 (지원범위,지원시설)
소재분야 반도체 CMP 슬러리 설계
  • ZrO2 입자 기반 텅스턴(W) CMP 슬러리
  • Wet-ceria 기반 poly stop SiO2 CMP 슬러리
  • SiO2 혹은 ZrO2 입자 기반 Cu CMP 슬러리
  • ZrO2 혹은 wet-ceria 입자 기반 유기물 CMP 슬러리
  • Wet-ceria 입자 기반 SiC CMP 슬러리
  • ZrO2 입자 기반 PRAM 용 CMP 슬러리
  • Wet-ceria 입자 기반 Ge-film CMP 슬러리
  • Display glass CMP용 슬러리 기술
  • 텅스턴 CMP용 nano-ZrO2 입자 기반 슬러리
디스플레이용 CMP 슬러리 설계
  • Wet-ceria 입자 기반 유기물 CMP 슬러리
  • Wet-ceria 입자 poly-Si CMP슬러리
  • SiO2 혹은 ZrO2 입자 기반 Cu CMP 슬러리
  • Wet-ceria 입자 기반 QD OLED 용 슬러리
디스플레이용 Quantum dot
  • InP 기반 친환경 Biue, Green 및 Red emitting quantum-dot 합성 기술
반도체 및 디스플레이 blank mask
  • 반도체 blank mask 용 초 고순도 및 초 결정 쿼츠 파우더 합성 기술
  • EUVL blank mask 증착 기술
LED용 HVPE GaN 기술
  • 차세대 고효울 LED 용 GaN 기판 기술
장비 분야 12인치 웨이퍼 기반 차세대 메모리 및 process in memory(PIM) 공정 및 평가기술
  • p-STT MRAM, ReRAM, Selector
  • Cross-point memory array 공정 및 평가 기술
  • Process in memory 공정 및 평가 기술
Quantum dot UV camera 및 이미지 인식 A.I
  • 친환경 고 정밀도 피부 lesion분석
  • 환경 유해물질 이미지 분석(NOx, SOx, O3 etc)
  • 반도체 및 디스플레이 UV 기반 초 미세 표면 결함 분석
4대표연구성과
소재분야

소재분야

장비분야

장비분야

5기업 대상 안내 가능한 지원 항목
  • 12인치 CMP 소재/부품/장비 공정기술 자문
  • 12인치 PVD(sputter) 소재/부품/장비 공정기술 자문
  • 고순도 quartz powder 소재 공정기술 자문
  • Si/SiGe/SiC/GaN 소재 공정기술 자문
6담당자정보
    • 연구 책임자

      박재근 교수

    • E-mail

      parkjgl@hanyang.ac.kr

    • Tel

      02-2220-0234

    • 실무 담당자

      김동원

    • E-mail

      win2010@hanyang.ac.kr

    • Tel

      02-2220-1641